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此外,作為高純度之氧化鎂者,例如:在專利文獻2(日本特開2004-084017號公報)...經由將所得之氧化鎂漿液予以噴霧乾燥而造粒,即可製造本發明之氧化鎂粒子 ...
氧化鎂(以下,有時稱為「MgO」)係一直以來在耐火物還有電子材料和觸媒等各種領域中使用。例如:在利用放電發光現象之電漿顯示面板(以下,有時稱為「PDP」)中,以玻璃介電體覆蓋透明電極之構造的交流型(AC型)PDP,為了防止因離子衝擊之濺鍍使介電體層表面變質而提升放電電壓,一般於介電體層上雖形成有保護膜,但一直以來使用MgO膜作為此保護膜。由於要求保護膜具有低放電壓且耐濺鍍性優良,經由將耐濺鍍性優良且二次電子之放出係數大之絕緣體MgO做為保護膜使用,故可降低放電起始電壓。如此,MgO膜係有助於延長PDP之壽命。
以往,PDP用MgO蒸鍍材主要是使用MgO單晶粉碎物。然而,隨著PDP之高性能化,PDP製造商所要求之技術水準也升高,而期望PDP蒸鍍材也進一步改良,因此,逐漸轉移往將添加物元素量易調整之高純度多晶MgO粒 子燒結之燒結體。此外,在PDP以外之電子材料、螢光體原料、觸媒材料、各種標靶材原料、超導薄膜基底用之原料、穿隧磁阻元件(TMR元件)用之穿隧障壁原料等或觸媒方面,對於高純度之MgO材料之要求也都在提升。
用以得到高純度之氧化鎂之技術,例如是在專利文獻1(日本特開昭61-209911號公報)中,記載有高純度氧化鎂之製造方法。在其中記載有,特徵為將含有鎂之粗原料以無機酸(mineral acid)溶解而得到鎂之無機酸鹽之粗製液,並在此粗製液中添加鹼將粗原料中之不純物沉澱去除而得到鎂之無機酸鹽後,在此精製液中添加鹼至pH達10以上,並將鹼添加液在120℃以上之溫度進行水熱處理後,生成由鎂之氫氧化物與硫酸化物之複鹽組成之鎂化合物,並將鎂化合物水洗、脫水後,將該脫水物以1000℃以上之溫度過熱而組成之氧化鎂之製造方法。
此外,作為高純度之氧化鎂者,例如:在專利文獻2(日本特開2004-084017號公報)中揭示,係做為在形成AC型電漿顯示面板之介電體層之保護膜時使用之氧化鎂蒸鍍材之製造原料之氧化鎂粉末。此氧化鎂粉末之特徵為:MgO純度高於99.98質量%,比表面積在5至10m2 /g之範圍,且一次粒子之形狀為立方體。此外,揭示此氧化鎂粉末係使高純度之金屬鎂蒸氣與氧在氣相中反應由氣相氧化反應法而製造。
然而,此氧化鎂粉末係將金屬鎂藉由直接氧化之氣...
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【氧化鎂-造粒(II)】食品添加物產品登錄碼:TFAA20000073725
添加物名稱:氧化鎂-造粒(II);食品添加物產品登錄碼:TFAA20000073725食品業者登錄字號:P-180620093-00000-1添加物分類:營養添...