國立台北科技大學奈米光電磁材料技術研發中心 | 食品添加物合法業者資訊網

與直流濺鍍之原理、概念相同，為了提高直流濺鍍的沉積率，另外於靶材表面外加磁場如下圖，使高能量離子撞擊待鍍靶材後，產生的二次電子拘束於靶材附近，以螺旋狀的軌跡在靶 ... Read More

磁控濺鍍機 ... 利用磁力控制增加電漿密度，以離子轟擊靶材濺鍍銅、鋅、鉻、鋁、鈦金屬薄膜(DC gun)與金屬氧化物氧化鋅、二氧化矽薄膜(RF gun)於基板上，最小均勻 ... Read More

射頻磁控濺鍍機（RF magnetron Sputter）是一種薄膜製程的儀器，可適用於電機、機械、電子、光學、材料等研究領域。射頻磁控濺鍍機其基本原理乃根據離子濺射原理，當 ... Read More

磁控濺鍍(Magnetron of sputteirng). 於濺鍍源(cathode)內加裝磁控裝置，藉著磁場與電場間的電磁效應，所產生的電磁力來影響電漿內電子的移動，使得電子將進行螺旋式的 ... Read More

由 CW Chang 著作 · 2012 · 被引用 4 次 — 在濺鍍的過程中，電子受電磁場的影響在將腔體內與氬氣碰撞形. 成電漿，而電漿內的氬離子在負電壓的吸引下撞擊靶材，並將其原子濺射至基材. 形成薄膜。因此為了提高均勻度， ... Read More

以磁控射頻濺鍍的方式在玻璃上鍍鋁，使同學了解濺鍍流程。 實驗原理：. 直流濺射鍍膜系統. 直流濺射鍍膜系統基本上是在高真空環境中充入工作氣體（一般為氬氣），. Read More

磁控濺射或磁控濺射法、磁控濺射技術（英語：magnetron sputtering）是在濺射的基礎上，運用靶板材料自身的電場與磁場的相互電磁交互作用，在靶板附近添加磁場，使得二 ... Read More

濺鍍技術在薄膜的緻密性與基材附著性有著良好表現，而JF MGS系列的磁控濺鍍系統在設計上兼顧使用便利性與性能，因此可輕易應用於各種需要真空鍍膜的場合，例如：AlCrN ... Read More