透明導電薄膜特性及光電元件應用 | 食品添加物合法業者資訊網

      由於光電產品日新月異，透明導電薄膜的應用倍增，對於其電阻率及穿透率的要求各有不同，透過本文了解透明導電薄膜的基本特性及其在光電元件的應用。

透明導電薄膜簡介      現在的人過的日子比以前的皇帝和國王還要更好，因為可以很輕易的飛越半個地球到另一個國家，透過網路及電話就可以連絡到親人或是朋友，人手一機除了講電話還可以上網和聽音樂，居住的品質與娛樂的種類也不斷的在提升，資訊的爆炸讓每個人都有機會吸收到許多知識，學習到許多技能，這一切都是因為科技在進步，在不斷的商業競爭以及人類對於生活便利的要求，光電產品如平面顯示器、高階智慧型手機、觸控平板電腦以及遊戲機等，都有急速成長之趨勢；如平面顯示器(Flat Panel Display, FPD)取代傳統陰極射線管(Cathode Ray Tube, CRT)電視，手機不再只有撥打接通的功能，更增加了拍照、攝影、上網及聽音樂等附加價值，自從蘋果公司(Apple Inc.)推出iPhone, iPad之後，更引領了人們對於使用觸控面板的風潮。人們對電子產品的要求，除了必須具備以往的輕薄短小等特性之外，更要求人性化與便利性，近年來更趨向可撓性的電子產品開發，世界各國積極投入大量的人力與財力發展光電相關領域之材料與產品開發。我國亦將光電產業列為新興產業之一。

     透明導電薄膜最早的文獻記載可追溯至1902年，由Streintz[1]發現第一個具有透明導電性質的材料為氧化鎘(CdO)。1907年Badeker[2]首度發表利用濺射法鍍金屬鎘(Cd)膜在玻璃上，再加熱形成透明導電薄膜-氧化鎘(CdO)。之後，Littleton[3]於1931年發表第一個以氧化錫(SnO2)作為透明導電薄膜的專利。1942年McMaster[4]提出氧化錫(SnO2)沉積在玻璃基板上。1954年Rupprecht[5]首先發現氧化銦(In2O3)具有導電性，以金屬銦(In)作為靶材，利用蒸鍍的方式沉積於石英基板上，之後在大氣的環境下，以700~1...